Please use this identifier to cite or link to this item: http://artemis.cslab.ece.ntua.gr:8080/jspui/handle/123456789/16123
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorΙωάννης Καρακίτσιος
dc.date.accessioned2018-07-23T17:16:22Z-
dc.date.available2018-07-23T17:16:22Z-
dc.date.issued2011-10-16
dc.date.submitted2011-12-13
dc.identifier.urihttp://artemis-new.cslab.ece.ntua.gr:8080/jspui/handle/123456789/16123-
dc.description.abstractΤα βελτιωτικά υλικά γειώσεων χρησιμοποιούνται ευρέως σήμερα για τη διατήρηση της αντίστασης γείωσης σε χαμηλά επίπεδα. Ωστόσο η απόδοση των υλικών αυτών δεν παραμένει ίδια κατά τη διάρκεια του έτους, λόγω μεταβολής των περιβαλλοντικών συνθηκών. Στα πλαίσια της διπλωματικής αυτής εργασίας πραγματοποιήθηκαν, σε καθημερινή σχεδόν βάση, μετρήσεις της αντίστασης γείωσης 6 διαφορετικών συστημάτων γείωσης: τα πέντε από αυτά έχουν βελτιωτικά υλικά ενώ το έκτο είναι εγκατεστημένο σε φυσικό έδαφος. Έχουμε έτσι τη δυνατότητα όχι μόνο να παρακολουθήσουμε την ικανότητα των βελτιωτικών υλικών να μειώνουν την αντίσταση γείωσης αλλά και να εξετάσουμε αν η ικανότητα αυτή δικαιολογεί το, ιδιαίτερα αυξημένο σε ορισμένες περιπτώσεις, κόστος αγοράς των υλικών αυτών. Επειδή η ασφάλεια που παρέχει ένα σύστημα γείωσης δεν εξαρτάται μόνο από τη χαμηλή τιμή της αντίστασης γείωσης αλλά και από τις αναπτυσσόμενες βηματικέςτάσεις και τάσεις επαφής, πραγματοποιήθηκαν επίσης μετρήσεις της ειδικής αντίστασης του εδάφους οι οποίες, μετά από επεξεργασία με το πρόγραμμα CYMGrd, δίνουν τα μέγιστα επιτρεπόμενα όρια των μεγεθών αυτών. Δίνεται έτσι η δυνατότητα να εξετάσουμε πώς μεταβάλλονται τα μέγιστα επιτρεπόμενα όρια βηματικής τάσης και τάσης επαφής, σε σχέση με το χρόνο καθώς και με ορισμένουςπεριβαλλοντικούς παράγοντες.
dc.languageGreek
dc.subjectαντίσταση γείωσης
dc.subjectβελτιωτικά υλικά
dc.subjectβηματική τάση
dc.subjectειδική αντίσταση εδάφους
dc.subjectμέγιστα επιτρεπόμενα όρια ασφαλείας
dc.subjectτάση επαφής.
dc.titleΕπίδραση Βελτιωτικών Υλικών Εδάφους Στη Χρονική Μεταβολή Της Αντίστασης Γείωσης Κατακόρυφων Ηλεκτροδίων
dc.typeDiploma Thesis
dc.description.pages156
dc.contributor.supervisorΣταθόπουλος Ιωάννης
dc.departmentΤομέας Ηλεκτρικής Ισχύος
dc.organizationΕΜΠ, Τμήμα Ηλεκτρολόγων Μηχανικών & Μηχανικών Υπολογιστών
Appears in Collections:Διπλωματικές Εργασίες - Theses

Files in This Item:
File SizeFormat 
DT2011-0224.pdf6.91 MBAdobe PDFView/Open


Items in Artemis are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.